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平面研磨机-高精密圆柱硅片研磨抛光机的性能特点

2016/11/22 12:04:02      点击:
  高精密圆柱硅片研磨抛光机对于各种大尺寸硅片及晶体材料的研磨抛光加工都能起到理想的效果;高精密圆柱硅片研磨抛光机是由四个吸附盘吸附硅片与抛光盘做逆时针旋转来达到抛光的目的,是专门为加工制备晶体、陶瓷、玻璃、金属、岩样、矿样、耐火材料、PCB板、复合材料的新一代产品。它配备了203mm直径的研磨抛光盘和两个加工工位,可用于研磨抛光直径≤80mm或对角线长≤80mm的矩形平面。采用本机并选择适当的附件,可自动批量生产高质量的平面磨抛产品。无级调整摆动频率,实现平面磨抛更加平整。平面抛光机

  高精密圆柱硅片研磨抛光机的性能特点:

  1、高精密圆柱硅片研磨抛光机的吸附盘由四台单独的电机驱动、速度与压力可调。平面研磨抛光机

  2、高精密圆柱硅片研磨抛光机的控制系统中采用PLC彩色终端等先进技术,系统的响应速度更快、更精确,并具有远程监控,远程维护的功能。平面研磨机

  3、高精密圆柱硅片研磨抛光机运行平稳,抛光后的产品厚度公差可控制在正负0.002mm范围内,粗糙度可达到0.0005mm。
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